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鹽酸頭孢噻呋超高速剪切膠體磨

簡要描述:

鹽酸頭孢噻呋超高速剪切膠體磨,鹽酸頭孢噻呋改進型膠體磨,是,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及分散的效果。

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鹽酸頭孢噻呋超高速剪切膠體磨

鹽酸頭孢噻呋超高速剪切膠體磨,鹽酸頭孢噻呋改進型膠體磨,是,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及分散的效果。

鹽酸頭孢噻呋膠體磨  

設備選型上注意幾點:

  • 設備能夠達到無菌級別。即設備可以在線滅菌,可以耐受高溫,滅菌后可以保持無菌狀態(tài)。
  • 電機要求有變頻控制,可以有效延緩電機的壽命。
  • 膠體磨的不銹鋼材質(zhì)一定要耐磨,防止研磨過程出現(xiàn)金屬碎屑。
  • 關于生產(chǎn)效率配備、連接方式、電源、噪音、安全等問題生產(chǎn)單位應根據(jù)生產(chǎn)現(xiàn)場考慮。

選定的膠體磨作為生產(chǎn)頭孢噻呋、頭孢喹肟等混懸液的關鍵設備,由于價格較貴,需要在廠家現(xiàn)場試驗,考察研磨效果。為做好此項工作,制定方案如下:

  • 周一高新區(qū)設備員根據(jù)三個廠家提供的資料,結合高新區(qū)的產(chǎn)能,優(yōu)選出2家設備,并確定設備的型號。同時確認zui小試驗數(shù)量,以及試驗現(xiàn)場是否有檢驗研磨粒度的儀器。
  • 周一高新區(qū)水針車間根據(jù)廠家提供的zui小配料量,配制試驗兩家設備的物料。
  • 由于硫酸頭孢喹肟的價格較貴,本次試驗采用鹽酸頭孢噻呋,暫不考慮喹肟(喹肟研磨時間較長)。
  • 初步按照每家設備4升體積的試驗量,準備8升數(shù)量的物料。具體物料數(shù)量由研發(fā)提供,高新區(qū)提供。
  • 根據(jù)試驗數(shù)量,周一做出相應比例的油膠溶液。準備試驗器材。
  • 試驗方案

試驗目的:檢驗膠體磨的研磨效果以及效率

試驗器材:試驗用膠體磨、顯微鏡、載玻片、涂針、留樣瓶、封口鉗、8號針頭、注射器,1ml移液管,溫度計。

試驗步驟:

1、現(xiàn)場確認設備的型號、性能、以及清洗方式。

2、加入物料,設定3分鐘的研磨時間(假定4升物料研磨5分鐘合格,那么放大至80升物料,需要研磨60分鐘),取樣檢測粒度,記錄粒度分布數(shù)量。用移液管測量流速,用8號針頭測量通針性。以上數(shù)據(jù)作為比較兩家設備的參數(shù)。

3、如果3分鐘沒有達到效果,則繼續(xù)進行5分鐘試驗。以此類推,繼續(xù)做好數(shù)據(jù)檢測。

4、在研磨性能試驗完成以后,利用現(xiàn)有物料對膠體磨進行連續(xù)開機試驗,初步定為30分鐘,試驗膠體磨的產(chǎn)熱降溫性能。測量機體軸承處溫度、測量研磨腔出來的料溫溫度,顯微鏡檢查料液中是否有金屬碎屑。以上數(shù)據(jù)作為比較兩家設備的數(shù)據(jù)。

 

鹽酸頭孢噻呋膠體磨是 

化作用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。 

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

GMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

鹽酸頭孢噻呋膠體磨    跟多額信息請 

研磨分散機

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

GMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

GMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

GMD 2000/10

8000

4,200

23

22

DN80/DN65

GMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

GMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

120000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

產(chǎn)品相關關鍵字: 鹽酸頭孢噻呋膠體磨 超高速剪切膠體磨 頭孢噻呋高剪切膠體磨 頭孢喹肟膠體磨 頭孢類藥物研磨機

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